Vinculación Educativa

Detalles del proyecto

Imagen del proyecto:

Título:

Descripción:

Realizar el depósito y caracterización de películas de carburo de silicio amorfo y nanocristalino en el sistema de Depósito químico en fase vapor asistido por plasma (PECVD) en el laboratorio de microelectrónica de INAOE.

Responsable del proyecto:

Clasificación:

Límite de estudiantes:

Fecha inicial del proyecto:

Fecha final del proyecto:

Producto generado:

Plan de trabajo (PDF):

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Área:

Posgrado:

LGAC:

Tipo de proyecto:

Mínimo de horas requeridas: Máximo de horas requeridas:

Perfil requerido:

Estudiante de licenciatura en nanotecnología y/o áreas afines.

Observaciones:

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